Hj?rtsvikt ?r ett vanligt och progressivt tillst?nd som drabbar miljontals m?nniskor v?rlden ?ver. F?r patienter med avancerad hj?rtsvikt som inte l?ngre svarar p? optimal medicinsk behandling, kan implantation av en Left Ventricular Assist Device (LVAD) erbjuda en livsf?rl?ngande behandlingsm?jlighet. ?ven om LVAD-behandling kan avsev?rt f?rb?ttra ?verlevnaden, inneb?r det ocks? att patienter och deras n?rst?ende m?ste ta p? sig ett omfattande ansvar f?r egenv?rden i hemmet.
Tillr?cklig egenv?rd ?r avg?rande f?r patienter med LVAD f?r att f?rebygga komplikationer, f?rl?nga livsl?ngden och f?rb?ttra livskvaliteten. Fram till nyligen fanns det inget omfattande och validerat instrument f?r att m?ta egenv?rdsbeteenden specifika f?r denna patientgrupp. D?rf?r, efter en litteraturgenomg?ng,? utvecklade vi skalans fr?gor med hj?lp av Delphi-metoden,2 och bed?mde skalans psykometriska egenskaper.?
Den inneh?llande 20-fr?gor LVAD-sj?lvskattningsskalan f?r egenv?rdsbeteende ?r ett giltigt och tillf?rlitligt instrument f?r att m?ta egenv?rdsbeteende hos patienter med LVAD i forskning och klinisk praxis.? Skalan best?r av tre delskalor: Monitorering, Hj?rtsvikt egenv?rd och LVAD egenv?rd. Totalpo?ng och delskalepo?ng standardiseras till ett intervall mellan 0 och 100, d?r h?gre po?ng indikerar b?ttre egenv?rd. Mer information om po?ngs?ttning finns l?ngre ner p? hemsidan.
Licens
Du ?r v?lkommen att anv?nda LVAD-sj?lvskattningsskalan f?r egenv?rdsbeteende. Ingen licens kr?vs och den ?r fri att anv?nda.
Referenser
1. Kato N, Jaarsma T, Ben Gal T. Learning Self-care After Left Ventricular Assist Device Implantation. Curr Heart Fail Rep 2014;11:290-298. doi: 10.1007/s11897-014-0201-0
2. Kato NP, Jaarsma T, Casida JM, et al. Development of an Instrument for Measuring Self-Care Behaviors After Left Ventricular Assist Device Implantation. Prog Transplant 2019;29:335-343. doi: 10.1177/1526924819874358
3. Kato NP, Melnikov S, Denfeld QE, et al. Validity and reliability of the left ventricular assist device self-care behaviour scale. PLoS One 2023;18:e0275465. doi: 10.1371/journal.pone.0275465