Schematisk bild på HiPIMS-processen inklusive sputtering av källmaterialet (target) följt av jonisering, partikeltransport och slutligen filmtillväxt på substratet. Jag erhöll min doktorsexamen 2010 vid Linköpings universitet. Efter att ha arbetat vid Kungliga Tekniska Högskolan (KTH), Kiel University, Tyskland och National Center for Scientific Research (CNRS)/Paris-Saclay University, Frankrike, återvände jag till Sverige och är nu gästprofessor i avdelningen Coatings & Plasma Physics vid Linköpings universitet.
Jag är också medgrundare av det svenska tunnfilmsteknikföretaget Ionautics.
Tunnfilmsteknik
Under hela min karriär har jag gått i spetsen för internationella forskningsinsatser för att utveckla och karakterisera nya plasmabaserade metoder för ytbeläggning, i synnerhet tunnfilmstekniken High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS).
HiPIMS
HiPIMS nyttjar vanliga sputter-magnetroner i kombination med pulsade plasmaurladdningar, där en stor andel av beläggningsmaterialet består av joner i stället för vanligt förekommande neutrala partiklar. Det finns flera fördelar med att ha ett joniserat beläggningsflöde, såsom jämnare och tätare skikt och ökad kontroll över deras fassammansättning, mikrostruktur samt mekaniska och optiska egenskaper.
Pågående forskning
Min nuvarande forskning fokuserar på plasmaprocesskontroll under reaktiv filmtillväxt, exempelvis oxider och nitrider, där jag har upptäckt nya sätt att möjliggöra stabila och repeterbara HiPIMS-processer med hög beläggningshastighet.
Jag är också intresserad av icke-invasiv processdiagnostik som möjliggör karakterisering av processer i realtid. Jag tror att sådana verktyg är nyckeln till digitaliserade ytbeläggningsprocesser, som har potential att revolutionera mitt forskningsområde i linje med Industri 4.0-konceptet.